株式会社日本計画研究所
ビジネスセミナーを企画開催するJPI（日本計画研究所）は、下記セミナーを開催します。
JPI（日本計画研究所）は、東京都立大学大学院 理学研究科 化学専攻 無機化学研究室 教授
山添 誠司 氏を招聘し、DACが拓く新市場：事業化へのロードマップと最新技術動向について詳説いただくセミナーを開催します。
〔詳細・お申込みはこちら〕https://www.jpi.co.jp/seminar/17410
〔タイトル〕
2050年CN達成のキーテクノロジー
DACが拓く新市場：事業化へのロードマップと最新技術動向
～液固相分離・固体吸収剤を用いた高効率CO2吸収技術の最前線～
〔開催日時〕
2025年08月22日(金) 13:30 – 15:30
※セミナー開催終了後も、アーカイブ配信のお申し込みを受け付けております。
〔講師〕
東京都立大学大学院
理学研究科 化学専攻 無機化学研究室
教授
山添 誠司 氏
〔講義概要〕
2050年でのカーボンニュートラル実現のために、大気中の低濃度二酸化炭素（～430ppm）を効率よく吸収・回収するDirect Air Capture (DAC)技術の開発が望まれている。すでに固体吸着材やCa(OH)2を用いたDACプロセスの開発が進められているが、より低エネルギー・低コストで駆動するDAC技術の開発が必要である。
本講演では、世界で開発が進められている低濃度二酸化炭素吸収技術について紹介しつつ、当研究室で開発を進めている液固相分離現象をもちいた高速二酸化炭素吸収技術やアミノ基を固定化した固体二酸化炭素吸着剤によるDAC技術の開発状況について解説する。
〔講義項目〕
1. カーボンニュートラル・Direct Air Captureについて
(1) カーボンニュートラル
(2) 二酸化炭素吸収技術
2. 液固相分離技術によるDirect Air Capture技術の開発
(1) 液固相分離によるDAC技術について
(2) ジアミンを利用した液固相分離によるDAC技術の開発
(3) 固体カルバミン酸からの低エネルギー二酸化炭素脱離技術の開発
3. アミン修飾シリカを用いた固体吸着剤によるDAC技術の開発
(1) 固体吸着剤を利用したDAC技術について
(2) アミン修飾シリカの合成とDACへの応用
4. 今後の展望
5. 関連質疑応答
6. 名刺交換・交流会
通常交流の難しい講師及び受講者間での名刺交換・交流会で人脈を広げ、事業拡大にお役立ていただいております。
〔受講方法〕
会場受講・ライブ配信・アーカイブ配信（2週間、何度でもご都合の良い時間にご視聴可）のいずれかからお選びいただけます。
〔受講料〕
1名：37,750円（税込）
2名以降：32,750円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。
〔詳細・お申込みはこちら〕https://www.jpi.co.jp/seminar/17410
◆セミナー終了後、講師へのご質問やお取り次ぎもさせていただいております。
◆講師やご参加者同士での人的ネットワークの構築や、新たなビジネスの創出に大変お役立ていただいております。
◆セミナー開催終了後も、アーカイブ配信のお申し込みを受け付けております。
【お問合せ】
株式会社日本計画研究所
〒106-0047東京都港区南麻布5-2-32 興和広尾ビル
TEL.03-5793-9761 FAX.03-5793-9767
【JPI（日本計画研究所）について】
“「政」と「官」と「民」との知の懸け橋”として国家政策やナショナルプロジェクトの敷衍化を支え、国家知の創造を目指す幹部・上級管理職の事業遂行に有益な情報をご参加者を限定したリアルなセミナーという形で半世紀、提供し続けています。