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8月26日(火) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUV、レジスト材料開発、光源システム応用研究、露光用フォトマスクブランクス～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏 、関西大学 工藤 宏人 氏、九州大学 溝口 計 氏、AGC株式会社 宇野 俊之 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発... -
2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速
大日本印刷（DNP） NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外...
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