レジスト材料– tag –
-
8月26日(火) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUV、レジスト材料開発、光源システム応用研究、露光用フォトマスクブランクス～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏 、関西大学 工藤 宏人 氏、九州大学 溝口 計 氏、AGC株式会社 宇野 俊之 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発... -
2月21日(金) AndTech「半導体関連 感光性フィルム 最新開発状況 ～基礎と高感度技術・AI活用による半導体向け材料開発～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech 関西大学 教授 工藤 宏人 氏 、株式会社レゾナック 南氏、戸田氏の３名にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、半導体関連 ... -
2月21日(金) AndTech「半導体関連 感光性フィルム 最新開発状況 ～基礎と高感度技術・AI活用による半導体向け材料開発～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech 関西大学 教授 工藤 宏人 氏 、株式会社レゾナック 南氏、戸田氏の３名にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、半導体関連 ...
1