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6月24日(火) AndTech「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech 鴨志田技術事務所 鴨志田 洋一 氏 、メルクエレクトロニクス株式会社 仁川 裕 氏 にご講演をいただきます 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、... -
5月13日(火) AndTech「半導体がもたらす成長産業・市場動向と今後の展開 ～ビジネス教養として知るべき半導体のすべて～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech BHオフィス 代表 半導体&サステナビリティエバンジェリスト 大幸 秀成 氏にご講演いただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、... -
3月13日(木) AndTech「半導体Now & GX x DX x サステナビリティ 半導体がもたらす成長産業・市場動向」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定
AndTech BHオフィス（元 東芝デバイス&ストレージ株式会社）大幸 秀成 氏 にご講演いただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、半導体につい... -
2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速
大日本印刷（DNP） NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外... -
3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発
大日本印刷（DNP） 回路線幅の微細化が進む半導体市場のニーズに対応 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメート...
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