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EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成
大日本印刷(DNP) 次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始 2ナノメートル世代以降のEUVリソグラフィ向けフォトマスク 大日本印刷株式会社(本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP)は、半導体製造の最先端プロセ... -
2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速
大日本印刷(DNP) NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社(本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP)は、半導体製造の最先端プロセスのEUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外...
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