CMP後洗浄– tag –
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新刊書籍「半導体製造における洗浄技術」が2024年12月2日に発売！洗浄の先端を知る研究者・技術者が各視点から最新の半導体洗浄技術を解説。
株式会社シーエムシー出版 株式会社シーエムシー出版（本社：東京都千代田区神田錦町1-17-1、代表取締役：金森洋平）は、半導体洗浄技術の最新動向について詳述した書籍『半導体製造における洗浄技術（監修：羽深等／反応装置工学ラボラトリ）』（定価：税... -
10月31日(木) AndTech「半導体製造プロセスにおけるCMP研磨・洗浄プロセスの最新動向とSiC対応・今後の展開」WEBオンライン Zoomセミナー講座を開講予定
AndTech 株式会社荏原製作所 今井 正芳 氏、産業技術総合研究所 加藤 智久 氏、株式会社ISTL 礒部 晶 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援...
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