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ポリフェノール“次世代新色素”が特許取得！!【SUNAの染毛革命】
株式会社NIL ジアミン不使用・過酸化水素不使用の一剤型・酸素反応型――「青」を起点に色の三原色（減法混色）で自然な黒髪色を再現 株式会社NIL（本社：神奈川県、代表取締役：佐藤 正晃）は、ジアミン系酸化染料および過酸化水素を一切使用せず、空気中の... -
白髪・抜け毛・細毛の原因は「見えない頭皮ストレス」だった!?SUNA(スーナ)、活性酸素・過酸化水素・アルカリに対する実験結果を発表
株式会社NIL ― 分子レベルからアプローチする、頭皮環境改善の新提案 ― 「最先端のナノ粒子化技術 × 天然由来の生理活性物質」で、機能性を飛躍的に高めたエイジングケア製品群を開発する化粧品スタートアップ、株式会社NIL（代表取締役社長：佐藤正晃／本... -
半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」「Adastra」が2024年度グッドデザイン金賞を受賞 ベスト100にミラーレスカメラ「EOS R5 Mark II」など5件が選出
キヤノン株式会社 キヤノングループの製品デザイン12件（※1）が、公益財団法人日本デザイン振興会が主催する「2024年度グッドデザイン賞」を受賞しました。このうち、特に高い評価を得た100件に贈られる「グッドデザイン・ベスト100」に、ミラーレスカメラ... -
ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」をTIE向けに出荷
キヤノン株式会社 キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）技術を使用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を、米国テキサス州にある半導体コンソーシアム「Texas Institute for Electronics」（以下、TIE）へ2024年9月26日に出荷します。FP... -
8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～」Zoomセミナーを開講予定
AndTech 【富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート：藤森 亨 氏】に、ご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、 R&D開発支援... -
6月21日(金) AndTech「ナノインプリントリソグラフィと光学デバイス・半導体製造技術の展望」Zoomセミナー講座を開講予定
AndTech ①東京理科大学・先進工学部・教授：谷口 淳 氏 ②SCIVAX株式会社・技術フェロー：粟屋 信義 氏 ③株式会社野村総合研究所・コンサルティング事業本部：岸本 隆正 氏 に、ご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代... -
AnyMind Group株式会社と東南アジアにおける独占販売契約を締結
株式会社NIL ヘアケアブランド「SUNA」のオフィシャルストアを立ち上げ、タイ、マレーシアで販売開始 株式会社NIL（読み：エヌアイエル、代表取締役社長CEO 佐藤正晃、以下「当社」）は、AnyMind Group株式会社（読み：エニーマインドグループ、代表取締役... -
キヤノンが「Advanced Packaging and Chiplet Summit（APCS）」に出展 生成AIにより需要が拡大する後工程向け半導体露光装置など幅広い製品を展示
キヤノン株式会社 キヤノン、キヤノンアネルバ、キヤノンマシナリーの3社は、2023年12月13日（水）から15日（金）までの3日間、「SEMICON Japan」と同時開催される「Advanced Packaging and Chiplet Summit（APCS）」に出展します。キヤノンブースイメージ...
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